等離子清洗機處理能獲得滿(mǎn)意的剖面，鉆孔小，選對表面和電路的損傷小，清潔、經(jīng)濟、**。擇比大，刻蝕均勻性好重復性高。等離子清洗機處理過(guò)程中不會(huì )引入污染，潔凈度高。

晶圓光刻蝕膠等離子清洗機與傳統設備相比較，設備成本不高，加上清洗過(guò)程氣固相干式反應，干式處理工藝無(wú)污染，無(wú)廢水，符合環(huán)保要求，不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝。此外，等離子清洗機解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應不準確、易引入雜質(zhì)、清洗不徹底等缺點(diǎn)。不需要有機溶劑，對環(huán)境也沒(méi)有污染，屬于低成本的綠色清洗方式