1.環(huán)保技術(shù):等離子體清洗機作用過(guò)程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無(wú)污染。 2.等離子清洗機不分處理對象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理;
等離子表面處理機有幾種稱(chēng)謂,英文叫(Plasma Cleaner)又稱(chēng)等離子體處理機,等離子清洗機,等離子處理器,等離子處理儀,等離子處理機,電漿處理機,plasma處理機,等離子刻蝕機,等離子體表面處理設備。 3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長(cháng)保存時(shí)間和較高表面張力。 4.功能強:僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的 同時(shí),賦予其一種或多種新的功能; 5.低成本:裝置簡(jiǎn)單,易操作維修,可連續運行,往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì )大大低于濕法清洗。
6. 等離子清洗機全過(guò)程可控工藝:所有參數可由電腦設置和數據記錄,進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。 7. 等離子清洗機處理物幾何形狀無(wú)限制:大或小,簡(jiǎn)單或復雜,部件或紡織品,均可處理.
等離子清洗機,等離子去膠機
1. 等離子表面活化/清洗 5.等離子涂鍍(親水,疏水)
2. 等離子處理后粘合 6.增強邦定性
3. 等離子蝕刻/活化 7.等離子涂覆
4. 等離子去膠 8.等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合