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產(chǎn)品資料

半導體晶圓等離子清洗去膠機器

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產(chǎn)品名稱(chēng): 半導體晶圓等離子清洗去膠機器
產(chǎn)品型號: GDR
產(chǎn)品展商: Guarder戈德?tīng)?/span>
產(chǎn)品文檔: 無(wú)相關(guān)文檔

簡(jiǎn)單介紹

半導體等離子清洗機專(zhuān)為半導體晶圓去膠和封裝預處理設計的表面處理設備清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導體器件,有效地去除表面的污垢和有機物,同時(shí)也能增強表面的附著(zhù)力和表面能


半導體晶圓等離子清洗去膠機器  的詳細介紹

在半導體及光電子元件封裝方面,等離子清洗機已廣泛應用于表面清洗及活化提高表面的粘結性,能為后繼的芯片粘接(DieAttach)、導線(xiàn)連接Wirebonding)或塑料封裝(EncapsuIation/Molding)工藝做準備。等離子清洗機污染物去除和表面活化技術(shù)改善了表面性質(zhì),從而提高了半導體封裝工藝的可靠性和產(chǎn)量。

等離子清洗機清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導體器件,有效地去除表面的污垢和有機物,同時(shí)也能增強表面的附著(zhù)力和表面能

等離子清洗機器在半導體、電子材料干式清洗中的應用如硅膠片的光刻膠剝離、除去有機膜、界面活性化、微細研磨、除去碳化膜等領(lǐng)域去除表面污染物和顆粒,有利于提高導線(xiàn)鍵的強度,減少芯片分層的發(fā)生,提高芯片本身的質(zhì)量和使用壽命,提高包裝產(chǎn)品的可靠性。

等離子清洗去膠機器用于晶圓級封裝前表面預處理、晶圓級鍵合前表面活化、光刻膠涂覆前表面活化、晶圓表面較小particle去除、表面有機殘留去除等



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